温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种清洁装置及薄膜沉积机台腔室的清洁方法。清洁装置包括：工艺腔室，工艺腔室内设有载台和离子生成器，载台用于放置吸附片，离子生成器用于向吸附片施加电荷；转运机构，用于将吸附片转移至薄膜沉积机台的至少一个腔室内吸附杂质颗粒；真空泵，...
该专利属于上海积塔半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海积塔半导体有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。