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本发明公开一种体硅湿法腐蚀高精度控制方法，包括：制作腐蚀停止参考结构和高精度腐蚀过程控制；制作腐蚀停止参考结构的流程包括：准备衬底片、进行深槽刻蚀、深槽填充和平坦化，最终形成嵌入衬底片表面的腐蚀停止参考结构；高精度腐蚀过程控制包括：制作硬掩...
该专利属于中国电子科技集团公司第五十八研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第五十八研究所授权不得商用。

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