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一种弯液面限域电沉积制备孪晶增强镀层的方法及其产品技术
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文档序号:44960056
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本发明公开了一种弯液面限域电沉积制备孪晶增强镀层的方法及其产品,涉及材料科学和电化学技术领域,方法包括:步骤1、对硅片依次进行预处理和等离子体处理;步骤2、制备金属盐和酸的混合溶液作为电解液,将电解液转移至3D直写打印装置中带有喷嘴的微针管...
该专利属于浙江工业大学所有,仅供学习研究参考,未经过浙江工业大学授权不得商用。
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