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本申请公开了一种射频感应耦合等离子体均匀性调控装置，涉及射频等离子体技术领域，该装置包括：放电腔室、石英介质窗、射频线圈对和双腔屏蔽罩；所述石英介质窗设置于所述放电腔室的上表面；所述射频线圈对设置于所述石英介质窗的上表面；所述双腔屏蔽罩设置...
该专利属于大连理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过大连理工大学授权不得商用。

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