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本申请提供一种图像传感器及其制造方法,涉及半导体制造。本申请的图像传感器中的光电感应区可以通过多个掺杂沉积层构成。由此,光电感应区在制备过程无需进行离子植入,避免了离子注入对衬底的破坏。此外,在前述多个掺杂沉积层中底部掺杂沉积层的掺杂离子原...该专利属于晶芯成(北京)科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过晶芯成(北京)科技有限公司授权不得商用。
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本申请提供一种图像传感器及其制造方法,涉及半导体制造。本申请的图像传感器中的光电感应区可以通过多个掺杂沉积层构成。由此,光电感应区在制备过程无需进行离子植入,避免了离子注入对衬底的破坏。此外,在前述多个掺杂沉积层中底部掺杂沉积层的掺杂离子原...