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半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:44571310
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本公开涉及一种半导体器件及其制造方法。半导体器件包括:选择器图案,包括掺杂有掺杂剂的绝缘材料,以响应于相对于阈值电压的施加电压而呈现不同的导电特性,其中选择器图案包括第一区域和第二区域,第一区域形成在从选择器图案的侧壁延伸的边缘中,第二区域...
该专利属于爱思开海力士有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过爱思开海力士有限公司授权不得商用。
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