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一种低电阻TiN半导体薄膜及其制备工艺制造技术
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文档序号:44496601
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本申请提供一种低电阻TiN半导体薄膜及其制备工艺,包括:将四氯化钛乙醇溶液加入至纤维素溶液中,搅拌后调节pH值至中性,加入聚乙烯吡咯烷酮搅拌10~30min后,得到前驱体溶液;将石英玻璃基片上滴加所述前驱体溶液进行镀膜,镀膜后放置在70~8...
该专利属于重庆鹰谷光电股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过重庆鹰谷光电股份有限公司授权不得商用。
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