下载冷却腔室及半导体工艺设备的技术资料

文档序号:44445869

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本发明提供一种冷却腔室,应用于半导体工艺设备。冷却腔室包括:腔体;冷却组件,包括用于冷却待冷却件的冷却部,冷却部可移动地设置于腔体中,且能够在避让位置和工作位置之间切换;其中,在工作位置,冷却部位于待冷却件的上方或下方;在避让位置,冷却部位...
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