冷却腔室及半导体工艺设备制造技术

技术编号:44445869 阅读:37 留言:0更新日期:2025-02-28 18:52
本发明专利技术提供一种冷却腔室,应用于半导体工艺设备。冷却腔室包括:腔体;冷却组件,包括用于冷却待冷却件的冷却部,冷却部可移动地设置于腔体中,且能够在避让位置和工作位置之间切换;其中,在工作位置,冷却部位于待冷却件的上方或下方;在避让位置,冷却部位于待冷却件的外围,以使待冷却件能够传入或传出腔体。利用可移动的冷却部对待冷却件进行冷却。当冷却部移动至工作位置时,冷却部位于待冷却件的上方或下方,以提高对待冷却件的冷却效果。当冷却部移动至避让位置时,冷却部位于待冷却件的外围,以避免对待冷却件的移动造成干扰。本发明专利技术还提供一种半导体工艺设备。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电池,具体地,涉及一种冷却腔室及半导体工艺设备


技术介绍

1、异质结(hjt)太阳能电池,因工艺步序少电池片质量高等优势有望成为下一代电池技术。关于制备hjt电池的工艺步序中,包含清洗制绒、非晶硅薄膜沉积、导电膜沉积以及丝网印刷等步骤。其中非晶硅薄膜沉积借助等离子体增强化学气相沉积(plasma enhancedchemical vapor deposition,简称为pecvd)设备制得,常见的pecvd设备布局有团簇式、链式等结构。

2、在hjt设备产线中,由于pecvd设备成本占产线设备的主要部分,为了降低设备成本,近些年来,厂商们通过增大载板产量的办法来起到提升设备产能降低成本的目的。其中,有采用叠层石墨舟的结构来增大产能,该石墨舟利用上下极板形成电极,在层间产生等离子体,从而满足链式设备,在不增大占地面积的同时,大大扩大了设备产能。

3、由于pecvd设备工艺温度为200℃左右,若高温将石墨舟从工艺腔传出,易与空气接触影响电池片性能,当使用多层承载舟时,电池片的高温问题则显得更为突出。</p>
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【技术保护点】

1.一种冷却腔室,其特征在于,应用于半导体工艺设备,所述冷却腔室包括:

2.根据权利要求1所述的冷却腔室,其特征在于,所述待冷却件为多个,且按在所述腔体中所在高度的不同划分为多组待冷却组;每相邻两组所述待冷却组在竖直方向上间隔设置;

3.根据权利要求2所述的冷却腔室,其特征在于,多个所述冷却部在平行于水平面的第一方向上划分为多组冷却组,每组所述冷却组中有多个所述冷却部,且在竖直方向上间隔设置;

4.根据权利要求3所述的冷却腔室,其特征在于,所述待冷却件能够沿所述第一方向传入或传出所述腔体;

5.根据权利要求3所述的冷却腔室,其特征在于,所述...

【技术特征摘要】

1.一种冷却腔室,其特征在于,应用于半导体工艺设备,所述冷却腔室包括:

2.根据权利要求1所述的冷却腔室,其特征在于,所述待冷却件为多个,且按在所述腔体中所在高度的不同划分为多组待冷却组;每相邻两组所述待冷却组在竖直方向上间隔设置;

3.根据权利要求2所述的冷却腔室,其特征在于,多个所述冷却部在平行于水平面的第一方向上划分为多组冷却组,每组所述冷却组中有多个所述冷却部,且在竖直方向上间隔设置;

4.根据权利要求3所述的冷却腔室,其特征在于,所述待冷却件能够沿所述第一方向传入或传出所述腔体;

5.根据权利要求3所述的冷却腔室,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:韦鑫锋白云强
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司
类型:发明
国别省市:

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