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本发明公开了一种锆和羟基磷灰石掺杂PVDF薄膜的制备方法及应用，属于材料改性技术领域。本发明采用磁控溅射法在PVDF薄膜上溅射单质锆和羟基磷灰石，使PVDF薄膜表面的锆元素含量为46.7wt%，得到锆和羟基磷灰石掺杂PVDF薄膜。本发明制备...
该专利属于武汉大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉大学授权不得商用。

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