【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于材料改性，具体涉及一种锆和羟基磷灰石掺杂pvdf薄膜的制备方法及应用。
技术介绍
1、pvdf（polyvinylidene fluoride polymer)压电薄膜即聚偏氟乙烯压电薄膜。该膜具有压电效应，即当受到外部力作用时，其表面会出现类似于天然骨组织的压电特性的极化电荷。自1969年问世以来，pvdf压电薄膜已经被广泛地应用在水声、电声、医疗器械、离子辐射、生物医学、力学、光学和超声等领域的传感器和换能器中。pvdf薄膜不仅展现出卓越的压电性能，还具有较大的比表面积，这使得它能够有效模拟天然细胞外基质中的胶原纤维结构。这种薄膜在经历微小的机械变形时，能够瞬时产生表面电荷，从而增强其生物相容性和功能性。已有研究表明，细胞外微环境中的纳米地形和电信号对骨再生至关重要，纳米结构可以通过机械传递调节细胞行为，进而诱导骨髓间充质干细胞（bmsc）进行成骨分化。这些特性使得pvdf薄膜在骨组织工程、骨修复、生物传感器以及药物递送等多个领域展现出广泛的应用潜力，成为研究与开发的重要材料。随着技术的进步，其应用范围和效果有望进一步...
【技术保护点】
1.一种锆和羟基磷灰石掺杂PVDF薄膜的制备方法，其特征在于，通过在PVDF薄膜表面采用磁控溅射方法溅射单质锆和羟基磷灰石，使PVDF薄膜表面的锆元素含量为46.7wt%。
2.根据权利要求1所述的一种锆和羟基磷灰石掺杂PVDF薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
3.根据权利要求1所述的一种锆和羟基磷灰石掺杂PVDF薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中，所述磁控溅射方法溅射单质锆和羟基磷灰石具体为控制PVDF薄膜与单质锆和羟基磷灰石之间的溅射距离，溅射功率，溅射时间，反应气体，反应气体流速，基板温度和气压。
4.根据权...
【技术特征摘要】
1.一种锆和羟基磷灰石掺杂pvdf薄膜的制备方法，其特征在于，通过在pvdf薄膜表面采用磁控溅射方法溅射单质锆和羟基磷灰石，使pvdf薄膜表面的锆元素含量为46.7wt%。
2.根据权利要求1所述的一种锆和羟基磷灰石掺杂pvdf薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
3.根据权利要求1所述的一种锆和羟基磷灰石掺杂pvdf薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤s2中，所述磁控溅射方法溅射单质锆和羟基磷灰石具体为控制pvdf薄膜与单质锆和羟基磷灰石之间的溅射距离，溅射功率，溅射时间，反应气体，反应气体流速，基板温度和气压。
4.根据权利要求3所述的一种锆和羟基磷灰石掺杂pvdf薄膜的制备方法，其特征在于，所述溅射距离为3-10cm，所述溅射功率50w，所述溅射时间20-40min。
5.根据权利要求3所述的一种锆和羟基磷灰石掺杂pvdf薄膜的制备方法，其特征在于，所述反应气体为高纯氩气...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。