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本公开涉及用于在衬底上形成经图案化的材料层的方法和设备。在一种布置中，在沉积过程期间辐照衬底的表面的被选择部分。所述辐照在所述被选择部分中局部地驱动所述沉积过程，并且由此形成呈由所述被选择部分限定的图案的经图案化的材料层。在所述辐照期间将具...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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