温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明揭示了一种薄膜沉积装置，当一次薄膜沉积结束后，旋转机构驱动加热托盘带动基板一并从第一位置旋转至第二位置，旋转完成后，加热托盘与基板分离，由支撑环承托基板，旋转机构驱动加热托盘旋转至第三位置，支撑环与基板保留在第二位置，加热托盘与基板接...
该专利属于盛美半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛美半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。