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集成电路器件制造技术
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文档序号:44293885
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一种集成电路器件,包括:衬底,具有正面和与正面相对的背面,并且包括正面中的鳍型有源区域和背面中的衬底凹陷;衬底中的隔离膜,限定鳍型有源区域;源/漏区,在鳍型有源区域上;接触插塞,在衬底上方;背面电力轨,至少部分地填充衬底凹陷;以及过孔电力轨...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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