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公开了一种量测方法。所述方法包括：使用欠填充的照射来辐照衬底上的包括一个或更多个子目标的目标，使得照射束轮廓对所述一个或更多个子目标中的每个子目标进行欠填充；捕获由对所述目标进行的所述辐照产生的散射辐射；在检测图像平面处对所述散射辐射进行成...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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