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本发明公开了一种清洗容器、制备装置、晶圆的清洗工艺，清洗容器包括清洗本体和用于对待清洗件进行冲洗的清洗液喷嘴，清洗液喷嘴设置在清洗本体的内壁面上，在清洗容器上还设有抽气组件，抽气组件包括设置在清洗本体的内壁面上的抽气通道以及和抽气通道相连通...
该专利属于新阳硅密（上海）半导体技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过新阳硅密（上海）半导体技术有限公司授权不得商用。

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