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本发明属于电子化学品技术领域，具体公开了一种钼蚀刻液及其在纳米级别钼蚀刻中的应用；该蚀刻液包括碱性溶液、氧化剂、缓蚀剂和金属螯合剂。蚀刻液的碱性环境具有高效的溶解能力，有利于维持稳定的蚀刻速率；同时在蚀刻液中加入缓蚀剂和螯合剂，缓蚀剂的存在...
该专利属于湖北兴福电子材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖北兴福电子材料股份有限公司授权不得商用。

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