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化学机械抛光装置包括：平台，所述平台支撑抛光垫；承载头，所述承载头固持基板的表面抵靠所述抛光垫；声学传感器，所述声学传感器支撑在所述平台上；以及电机，所述电机产生所述平台与所述承载头之间的相对运动以便抛光所述基板。所述承载头包括保持环以用于...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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