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本发明公开了一种水蒸气发生装置、液位控制方法及半导体工艺腔室，装置包括：水箱，水箱的底部与补水管路连接，水箱的顶部通过蒸汽输送管路与工艺腔室连通，补水管路上设有补水阀，蒸汽输送管路上设有气体流量控制件；水箱设有加热件、温度检测件、压力检测件...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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