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通过模拟光致抗蚀剂厚度演变来修补光刻掩模制造技术
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下载通过模拟光致抗蚀剂厚度演变来修补光刻掩模的技术资料
文档序号:43980010
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一种用于掩模设计修补的系统可开发在用于制造样本上的特征的一或多个工艺步骤后的层厚度的基于模拟的模型,开发制造工艺的变换模型,所述变换模型模仿所述基于模拟的模型且具有比所述基于模拟的模型更快的评估速度,且其中到所述变换模型的输入包含输入掩模设...
该专利属于科磊股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过科磊股份有限公司授权不得商用。
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