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锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的设计方法以及制备方法技术
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文档序号:43963397
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提供一种锗基底2‑13μm中远红外增透薄膜的设计方法以及制备方法。锗基底2‑13μm中远红外增透薄膜的设计方法包括:选定6.5μm作为光学薄膜设计1/4波长膜厚的参考波长,使用膜堆公式:Sub/0.04L/0.3H/0.1L/0.3H/0....
该专利属于安徽光智科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过安徽光智科技有限公司授权不得商用。
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