锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的设计方法以及制备方法技术

技术编号:43963397 阅读:18 留言:0更新日期:2025-01-07 21:48
提供一种锗基底2‑13μm中远红外增透薄膜的设计方法以及制备方法。锗基底2‑13μm中远红外增透薄膜的设计方法包括:选定6.5μm作为光学薄膜设计1/4波长膜厚的参考波长,使用膜堆公式:Sub/0.04L/0.3H/0.1L/0.3H/0.2L/0.2H/0.3L/0.1H/0.5L/0.03M/0.2L/0.2M/0.15L/0.6M/0.02Q/AIR,Sub为锗基底,AIR代表空气,H代表1/4波长膜厚的Ge,L代表1/4波长膜厚的ZnS,M代表1/4波长膜厚的YF<subgt;3</subgt;,Q代表1/4波长膜厚的Y<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;;软件对膜厚优化,得最佳的膜厚,优化后的锗基底2‑13μm波段的透过率符合要求;将优化后的膜厚输入镀膜机的控制电脑。锗基底2‑13μm中远红外增透薄膜的制备方法包括:S1,镀前清洁及膜料准备;S2,膜系工艺参数配置;S3,抽真空烘烤及膜料预熔恒温;S4,离子源清洗;S5,膜层镀制及监控;S6,镀后恒温保持;S7,降温取件;S8,重复步骤S1至步骤S7,第二面镀制。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及红外镀膜,更具体地涉及一种锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的设计方法以及制备方法


技术介绍

1、在红外测温仪器和热成像仪里面需要用到中远红外的滤光镜片,红外测温仪和热成像仪一般工作波段在2-13μm范围,而锗刚好在中远红外具有很好的透光性,且在可见光波段是不透的,由于锗本身的很高,折射率略大于4(无量纲),反射率可达36%,材料本身也存在一定对光的吸收,导致在特定波段的透光率不足,透光率不到47%,极大的限制了其在一些高精度光学系统中的应用,尤其在2-13μm中远红外超宽波段上的应用。

2、如何在锗基底上镀制一种可靠的光学薄膜来提升2-13μm波段的透光率、如何设计膜系与膜层制备成为光学薄膜领域亟待解决的技术问题。


技术实现思路

1、鉴于
技术介绍
中存在的问题,本公开的一目的在于提供一种锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的设计方法以及制备方法,其能够使得设计和制备得到的锗基底2-13μm中远红外波段的透过率符合要求。

2、本公开的另一目的在于提供一种锗基底2-13μm中远红本文档来自技高网...

【技术保护点】

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4.一种锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的制备方法,其特征在于,包括步骤:

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6.根据权利要求4所述的锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的制备方法,其特征在于,

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【技术特征摘要】

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【专利技术属性】
技术研发人员:蔡宇轩刘克武王振李满仕尹士平
申请(专利权)人:安徽光智科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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