【技术实现步骤摘要】
本公开涉及红外镀膜,更具体地涉及一种锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的设计方法以及制备方法。
技术介绍
1、在红外测温仪器和热成像仪里面需要用到中远红外的滤光镜片,红外测温仪和热成像仪一般工作波段在2-13μm范围,而锗刚好在中远红外具有很好的透光性,且在可见光波段是不透的,由于锗本身的很高,折射率略大于4(无量纲),反射率可达36%,材料本身也存在一定对光的吸收,导致在特定波段的透光率不足,透光率不到47%,极大的限制了其在一些高精度光学系统中的应用,尤其在2-13μm中远红外超宽波段上的应用。
2、如何在锗基底上镀制一种可靠的光学薄膜来提升2-13μm波段的透光率、如何设计膜系与膜层制备成为光学薄膜领域亟待解决的技术问题。
技术实现思路
1、鉴于
技术介绍
中存在的问题,本公开的一目的在于提供一种锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的设计方法以及制备方法,其能够使得设计和制备得到的锗基底2-13μm中远红外波段的透过率符合要求。
2、本公开的另一目的在于提供一种锗基
...【技术保护点】
1.一种锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的设计方法,其特征在于,包括步骤:
2.根据权利要求1所述的锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的设计方法,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的设计方法,其特征在于,
4.一种锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的制备方法,其特征在于,包括步骤:
5.根据权利要求4所述的锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的制备方法,其特征在于,
6.根据权利要求4所述的锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的制备方法,其特征在于,
7.根据权
...【技术特征摘要】
1.一种锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的设计方法,其特征在于,包括步骤:
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3.根据权利要求1所述的锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的设计方法,其特征在于,
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5.根据权利要求4所述的锗基底2-13μm中远红外增透薄膜的制备方法,其特征在于,
6.根据权利要求4所述的锗基底2-13μm中远红外...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔡宇轩,刘克武,王振,李满仕,尹士平,
申请(专利权)人:安徽光智科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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