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在半导体处理装置中钼氧卤化物副产物的原位处理制造方法及图纸
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下载在半导体处理装置中钼氧卤化物副产物的原位处理的技术资料
文档序号:43934969
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一种提供了通过原位清洁以及净化通向沉积室的钼氧卤化物前体输送管线来提高钼金属的原子层沉积效率的方法。清洁处理可通过使用至少一种表面钝化剂预处理输送管线和/或通过使用至少一种腐蚀抑制剂定期处理输送管线来进行。还提供了从已沉积的钼膜去除氧化物的...
该专利属于朗姆研究公司所有,仅供学习研究参考,未经过朗姆研究公司授权不得商用。
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