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本文中的各种实施方案涉及用于在介电材料中蚀刻高深宽比特征的方法、装置和系统。介电材料使用具有至少两种不同成分的多层或渐变的硬掩模来蚀刻。当硬掩模的不同部分被暴露出时，使用不同的蚀刻方案。例如，当硬掩模的较高部分暴露出时，可在第一温度下将特征...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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