温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本公开涉及一种晶圆处理装置及晶圆处理方法。晶圆处理装置包括气帘装置。气帘装置包括：设置于真空腔室的阀门侧的进气结构，设置于真空腔室的排气侧的排气结构，与排气结构相连通并沿排气结构的两侧分别延伸至阀门侧的第一管路和第二管路，与进气结构、排气结...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。