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本公开提供了一种对比度优化的抗污染型介质填充掩模版及其制备方法，该制备方法包括：S1，根据掩模条件进行仿真计算，得到优化的超透镜关键膜层参数；S2，根据优化的超透镜关键膜层参数，以不同折射率介质模拟填充掩模版的图形结构并进行模拟仿真，得到对...
该专利属于中国科学院光电技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院光电技术研究所授权不得商用。

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