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本发明构思提供了能够通过使用单次曝光图案化来实现具有临界间距的图案的光学邻近校正(OPC)方法，以及包括该OPC方法的掩模制造方法。该OPC方法包括：接收要在衬底上形成的目标图案的设计布局；通过对设计布局执行第一OPC来获得OPC图案；获得...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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