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本申请公开了一种旋转式自清洁刻蚀装置，包括工作室、介质罩、载台、载台、线圈、内罩、旋转驱动件、升降驱动件和顶升组件，内罩的底部设有遮边，遮边能够阻碍污染物进入工作室；内罩的表面附着有软质金属膜，能够可靠、高效地捕捉刻蚀过程中产生的污染物，从...
该专利属于无锡尚积半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡尚积半导体科技有限公司授权不得商用。

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