专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
三星电子株式会社
>
具有掺杂的源极/漏极区的半导体器件制造技术
>技术资料下载
下载具有掺杂的源极/漏极区的半导体器件的技术资料
文档序号:43651490
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种半导体器件,包括:衬底;有源图案,其在所述衬底上沿第一水平方向延伸;多个纳米片,其彼此间隔开并沿垂直方向堆叠在所述有源图案上;栅电极,其在所述有源图案上沿与所述第一水平方向不同的第二水平方向延伸,所述栅电极围绕所述多个纳米片;源极/漏极...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。