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本发明公开了一种工艺槽测温装置及基板处理设备，该工艺槽测温装置用于检测工艺槽内的化学液温度，工艺槽上端具有工艺槽开口。该工艺槽测温装置包括：防护管，包括依次连接且相互导通的测温部和延伸部，测温部远离延伸部的一端密封形成防护管底部，延伸部远离...
该专利属于盛美半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛美半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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