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本发明属于半导体技术领域，公开了一种光刻多复用装置及其制作方法，所述装置包括设置于光刻机载片台与曝光光源之间的水平支架，以及内嵌于水平支架上的圆形镂空区；所述水平支架上设置有滑轨凹槽，且所述滑轨凹槽设置于所述圆形镂空区的外周；所述圆形镂空区...
该专利属于深圳市汇芯通信技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市汇芯通信技术有限公司授权不得商用。

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