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本发明涉及掩膜版制造，具体涉及一种掩膜版斜线图形的补偿方法，构建椭圆形卷积核，并使用椭圆形卷积核对所有斜线图形进行卷积操作；对于第一斜线图形，在椭圆形卷积核中加入补偿量，并使用补偿后的椭圆形卷积核对第一斜线图形进行卷积操作；对于第二斜线图形...
该专利属于合肥清溢光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥清溢光电有限公司授权不得商用。

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