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本发明提供了一种带电粒子光学设备，用于向以网格布置的样品位置投射带电粒子束。该设备包括：限束孔径阵列和条带阵列。在限束孔径阵列中限定了多个孔径，以便产生射束网格。条带阵列沿射束路径定位。条带阵列跨多个射束的路径延伸，以对沿相应条带阵列的条带...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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