【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本文提供的实施例一般涉及带电粒子光学设备和方法。
技术介绍
1、在制造半导体集成电路(ic)芯片时，在制造工艺期间，由于光学效应或附带粒子等原因，衬底(即，晶片)或掩模上不可避免地会出现不期望的图案缺陷，从而降低产率。因此，监控不期望的图案缺陷的范围是ic芯片制造中的一个重要过程。更一般地说，检查和/或测量衬底或其他物体/材料的表面是制造期间和/或制造之后的一个重要过程。
2、带有带电粒子束的图案检查工具已用于检查物体，例如检测图案缺陷。这些工具通常使用电子显微镜技术，诸如扫描电子显微镜(sem)。在sem中，具有相对高能量的电子束以最终减速步骤为目标，以便以相对低的着陆能量着陆在样品上。电子束聚焦为样品上的探测点。探测点处的材料结构与来自电子束的着陆电子之间的相互作用导致信号粒子(例如，电子)从表面发射，诸如次级电子、背散射电子或俄歇电子。产生的信号粒子可以从样品的材料结构发射。通过将初级电子束作为探测点在样品表面上进行扫描，信号粒子可以跨样品的表面发射。通过从样品表面收集这些发射的信号粒子，图案检查工具可以获得表示样品表面的材料结构特性的数据。这些数据可以被称为图像，并且可以被绘制成图像。
3、通常需要改进带电粒子光学设备的特征。
技术实现思路
1、根据本专利技术的一个实施例，提供了一种带电粒子光学设备，用于将多个带电粒子束投射朝向样品位置，多个射束被布置成网格，该设备包括：限束孔径阵列，其中限定了多个孔径，多个孔径被定位成以便产生多个射束的网格；多个条
2、根据本专利技术的一个实施例，提供了一种使用限束孔径阵列和多个条带阵列将带电粒子束投射朝向样品位置的方法，该方法包括：a)从源发射的发散射束产生多个射束的网格；b)通过多个条带阵列沿射束路径将多个射束投射朝向样品位置；以及c)使用限束孔径阵列和多个条带阵列中的至少一者，抵消由多个射束通过多个条带阵列所引起的网格的特性。
3、根据本专利技术的一个实施例，提供了一种带电粒子光学设备，用于向样品位置投射多个带电粒子束，多个射束被布置成网格，该设备具有包括以下的特征：限束孔径阵列，其中限定了多个孔径，该多个孔径被定位成以便产生多个射束的网格；多个条带阵列，沿着多个射束的路径定位，条带阵列包括跨多个射束的路径延伸的电极，以便对在相应条带阵列的相邻电极之间通过的射束进行操作，从而准直通过射束的路径，并且至少两个不同阵列的阵列中的条带的定向沿着射束路径是不同的；以及控制器，其被配置为连接到多个条带的电极并向其施加电位差，使得多个条带准直网格，其中装置列中的至少一个特征具有经调整的特性，该特性被配置为减轻由多个射束穿过多个条带阵列而引起的网格中的像差。
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1.一种带电粒子光学设备，用于向样品位置投射带电粒子的多个射束，所述多个射束被布置成网格，所述设备包括：
2.根据权利要求1所述的带电粒子光学设备，其中由所述多个射束传播通过所述多个条带阵列引起的所述网格的所述特性是所述网格中所述射束中的每一者的实际位置与所述网格中的所述射束的期望位置之间的差。
3.根据权利要求1或2所述的带电粒子光学设备，其中所述多个条带阵列被配置为抵消所述网格的所述特性。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的带电粒子光学设备，其中所述多个条带阵列中的至少一者的所述条带基于所述射束的所述路径的偏移位置来被定位。
5.根据前述权利要求中的任一项所述的带电粒子光学设备，其中在所述条带阵列中的至少一个条带阵列中限定的用于所述射束从其穿过的狭缝的节距小于在所述条带阵列中更下游的另一个条带阵列中限定的用于所述射束从其穿过的狭缝的节距。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的带电粒子光学设备，其中所述多个条带阵列至少包括上游条带阵列、中间条带阵列和下游条带阵列，其中所述条带阵列各自限定用于使所述多个射束从其穿过的狭
7.根据权利要求6所述的带电粒子光学设备，其中由所述上游条带阵列限定的所述狭缝的节距小于由所述中间条带阵列限定的所述狭缝的节距和/或由所述下游条带阵列限定的所述狭缝的所述节距。
8.根据权利要求6或7所述的带电粒子光学设备，其中由所述中间条带阵列限定的所述狭缝的节距小于由所述下游条带阵列限定的所述狭缝的节距。
9.根据权利要求6至8中任一项所述的带电粒子光学设备，所述条带阵列中的条带跨所述多个射束的所述路径具有共同的定向，所述多个条带阵列的所述共同的定向具有旋转对称性，其中所述条带阵列的所述定向之间具有几何角位移。
10.根据权利要求6至9中的任一项所述的带电粒子光学设备，其中所述上游条带阵列的所述定向与所述中间条带阵列的所述定向之间的角度基本上不为60度。
11.根据前述权利要求中的任一项所述的带电粒子光学设备，其中所述条带阵列中的至少两个条带阵列在跨所述射束的所述路径的方向r的平面中以相同定向延伸。
12.根据前述权利要求中的任一项所述的带电粒子光学设备，其中所述多个条带阵列中的至少两个条带阵列成对设置，其中每对包括在所述平面中沿所述相同定向延伸的两个条带阵列，每对都是类似定向的条带阵列。
13.根据前述权利要求中的任一项所述的带电粒子光学设备，其中所述限束孔径阵列被配置为抵消所述网格的所述特性。
14.根据前述权利要求中的任一项所述的带电粒子光学设备，其中所述网格具有三重对称性。
15.根据前述权利要求中的任一项所述的带电粒子光学设备，还包括多极偏转器阵列，所述多极偏转器阵列包括多极阵列。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种带电粒子光学设备，用于向样品位置投射带电粒子的多个射束，所述多个射束被布置成网格，所述设备包括：
2.根据权利要求1所述的带电粒子光学设备，其中由所述多个射束传播通过所述多个条带阵列引起的所述网格的所述特性是所述网格中所述射束中的每一者的实际位置与所述网格中的所述射束的期望位置之间的差。
3.根据权利要求1或2所述的带电粒子光学设备，其中所述多个条带阵列被配置为抵消所述网格的所述特性。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的带电粒子光学设备，其中所述多个条带阵列中的至少一者的所述条带基于所述射束的所述路径的偏移位置来被定位。
5.根据前述权利要求中的任一项所述的带电粒子光学设备，其中在所述条带阵列中的至少一个条带阵列中限定的用于所述射束从其穿过的狭缝的节距小于在所述条带阵列中更下游的另一个条带阵列中限定的用于所述射束从其穿过的狭缝的节距。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的带电粒子光学设备，其中所述多个条带阵列至少包括上游条带阵列、中间条带阵列和下游条带阵列，其中所述条带阵列各自限定用于使所述多个射束从其穿过的狭缝。
7.根据权利要求6所述的带电粒子光学设备，其中由所述上游条带阵列限定的所述狭缝的节距小于由所述中间条带阵列限定的所述狭缝的节距和/或由所述下游条带阵列限定的所述狭缝的所述节距。
8.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员：P·W·斯莫雷恩伯格，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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