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本发明提供适用于CMP后清洁操作、特别是那些含有经暴露铜表面的衬底中的组合物。本发明的组合物提供这些衬底的极佳清洁，同时显示存在于所述衬底的表面的二氧化硅和有机材料的缺陷较少。还提供一种使用这些组合物清洁微电子装置衬底的方法和在两个或更多个...
该专利属于恩特格里斯公司所有，仅供学习研究参考，未经过恩特格里斯公司授权不得商用。

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