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本发明提供一种物理气相沉积设备的准直装置及物理气相沉积设备，该装置中的第一准直器和第二准直器均设置于工艺腔室中，且层叠设置于工艺腔室中的靶材与基座之间，第一准直器具有多个第一镂空部，第二准直器具有多个第二镂空部，各第一镂空部和各第二镂空部对...
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