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一种化学气相沉积设备制造技术
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下载一种化学气相沉积设备的技术资料
文档序号:43428587
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本发明公开了一种化学气相沉积设备,包括:腔体、加热盘、驱动装置及喷淋头。加热盘的加热管包括内圈、中圈及外圈。内圈开设有第一缺口而形成内弧形管段,内弧形管段沿铅垂方向的对称面为基准对称面。中圈上设有第二缺口和第三缺口而分为关于基准对称面对称的...
该专利属于大连皓宇电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过大连皓宇电子科技有限公司授权不得商用。
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