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一种在具有沟的基板上制造氮化硅质膜的方法，其包括以下工序：(a)在具有沟的基板上施用氮化硅质组合物，以形成组合物层；(b)对该组合物层照射波长200～229nm的光；以及(c)在非氧化气氛中加热该基板；其中该氮化硅质膜对波长633nm的光的...
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