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公开一种可暴露于例如钼蒸气、钨蒸气或其任何组合的化学蒸气的装置，所述装置具有覆盖其至少一部分的涂层。所述涂层减少或抑制所述装置的外表面暴露于蒸气时的质量改变。在某些情形中，所述质量改变为质量增加，且所述涂层减少或抑制等于或小于1x 10&l...
该专利属于恩特格里斯公司所有，仅供学习研究参考，未经过恩特格里斯公司授权不得商用。

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