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一种钝化接触结构及钝化接触晶硅电池制造技术
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文档序号:43358693
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本技术公开了一种钝化接触结构及钝化接触晶硅电池,包括:分别设置在金属接触区域的第一隧穿氧化硅层、第一多晶硅层,第一多晶硅层覆盖在第一隧穿氧化硅层上;分别设置在硅基体的背表面上的第二隧穿氧化硅层、第二多晶硅层;在金属接触区域,第一隧穿氧化硅层...
该专利属于江苏林洋太阳能有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过江苏林洋太阳能有限公司授权不得商用。
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