专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
ASML荷兰有限公司
>
利用晶片边缘背面涂层排除区域的晶片接地方法技术
>技术资料下载
下载利用晶片边缘背面涂层排除区域的晶片接地方法的技术资料
文档序号:43314955
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
提供了用于将带电粒子束装置中的晶片(604;904)接地的系统和方法。该系统和方法包括在晶片上的背面膜(608;908)中提供足够大小的排除区域(613;911),以允许晶片与带电粒子束装置的电触头(612;912)之间进行电连接。该系统和...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。