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描述了用于处理腔室的处理配件和具有下屏蔽件与下屏蔽环的处理腔室。下屏蔽件具有环形主体，所述环形主体具有内壁与外壁、顶壁与底壁，其中外凸耳壁从外壁的下部向外延伸到外凸耳外壁。下屏蔽环具有倾斜的下内壁，所述倾斜的下内壁具有顶面，所述顶面与上内壁...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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