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本发明公开了一种原子能级跃迁波长与硅晶面间距的比对测量方法，属于纳米计量溯源技术领域，包括如下步骤：S1、采用原子光刻技术制备掩膜光栅；S2、利用软X射线干涉光刻技术制备得到硅光栅；S3、基于原子能级跃迁波长计算硅光栅的理论周期值；S4、基...
该专利属于同济大学所有，仅供学习研究参考，未经过同济大学授权不得商用。

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