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本发明提供能够使等离子体处理稳定化的等离子体处理装置、分析装置和分析程序。作为一个方式的等离子体处理装置，能够在第一高频电源和第二高频电源各自产生脉冲、且匹配器控制所述第二高频电源的负载侧的阻抗的同时执行等离子体处理，所述等离子体处理装置的...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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