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公开了用于确定与光刻过程一起使用的掩模图案的方法、系统和计算机软件。一种方法包括：基于目标图案指派二维元件的部位；基于关联准则使所述二维元件相关联以形成表示掩模特征的簇；以及调整所述簇的所述二维元件以改变所述掩模特征。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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