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本发明提供了一种具有窄导线图案的半导体装置及其形成方法，其中使用双图案化，多个图案同时形成为具有不同宽度且某些区域的图案密度增加。该半导体装置包括多条导线，每条导线包括第一线部分和第二线部分，其中第一线部分沿第一方向在基板上延伸，第二线部分...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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