温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了关于辐照后测量半导体迁移率变化的原位辐照装置，解决现有测量辐照后半导体迁移率变化方法存在操作繁琐、周期长、测量装置复杂、测量效率低的不足之处。本发明原位辐照装置优化现有装置，兼顾辐照和测量功能，无需将辐照后的晶体取出，辐照发生模...
该专利属于西北工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过西北工业大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。