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本发明涉及一种确定ＴＥＭ的投影系统中的畸变的方法，以及一种用于校正这些像差的方法。所述像差是通过收集样品的大量的像进行确定的，所述样品在每一次像的获取之间被稍微移动。在这些像上将显示样品相同部分的子场（３０３，３０４－ｉ）进行比较。这些子场...
该专利属于ＦＥＩ公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＦＥＩ公司授权不得商用。

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