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本案揭示内容的实施方式提供包括功函数层电子元件与方法，该功函数层包括不形成硅化物的材料。电子元件包括硅层及金属接触件，在该硅层上有功函数层，该金属接触件在该功函数层上。...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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