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一种示例性方法包括:在使用半导体处理装置进行的半导体制作工艺期间捕获半导体处理装置的腔室的视图的第一图像,半导体处理装置包括被配置成对以完整帘幕轮廓进行流动的液体进行分配的液体分配组件。方法包括确定第一图像的帘幕轮廓分类。帘幕轮廓分类中的一...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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一种示例性方法包括:在使用半导体处理装置进行的半导体制作工艺期间捕获半导体处理装置的腔室的视图的第一图像,半导体处理装置包括被配置成对以完整帘幕轮廓进行流动的液体进行分配的液体分配组件。方法包括确定第一图像的帘幕轮廓分类。帘幕轮廓分类中的一...